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全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用金属氢化物薄膜仅仅对氢原子具有渗透性。当加热金属表面时，氢分子分离成原子被薄膜吸附，吸附的氢原子产生了一个小的电压，经放大器放大并被输送到指示器。5%的氢气+95%氮气的混和气是一种安全的不可燃气体，这是一种炼钢用的标准还原保护气，所以很容易买到混和好的气体，无需自己混气。与氦气检漏相比，氢氮混合气检漏技术的最大优势是气体成本低廉，仅为氦气的1/10-1/20左右！随着现在氦气供应越来越紧缺，价格越来越高，氢氮混合气低成本的优势将更为突出
。另外，氢检漏仪本身设备成本低于氦检漏仪，且内部没有真空泵、质谱室、灯丝等部件，无需每年维护。综合成本远低于氦气检漏。氢氮混合气检可以快速检出低至5*10-7mbarl/s的漏率，是目前检漏技术的发展趋势。这种技术在国外已得到了广泛的应用。在国内的空调行业，越来越多的厂商开始使用氢氮混和气检漏来替代原有的吸枪式氦检。全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用设备工作原理；
全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用采用进口质量流量控制器控制器气体的体积流量进行二元的混合配比，同时配备氢气分析仪在线监测混合气体的单一或多元气体浓度，保证配比比例,混合气体的比例在氢气分析仪分析的最大范围内可以随意设定，调节简单、方便、直观。
全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用控制方式
采用知名品牌编程器与触摸屏控制，实时显示配比流程、配比比例、工作压力、报警参数等信息，使操作变的简易明了。控制采用程序控制器与质量流量控制器做通讯控制，保证了配比的精度，同时设备设手动操作显示仪，可手动调节配比的比例。
全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用 主要技术指标；
1、 原料气
氮气压力 ≤0.8Mpa
氢气压力 ≤0.8Mpa
2、 工作压力 ≤0.6MPa
3、 混合气流量 ≥10NM3/h
混合气含氦量 0-20%可调
混合气压力 ≤0.6MPa
混合气精度 ±1.%（满量程）
4、 装机功率 200W
5、 电源 220V、50HZ
6、 设备重量 约150Kg
7， 外型尺寸 700×600×1400mm 全自动氢氮配气设备安装现场
8、 设备颜色 米白色
全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用设备主要组成及功能；
1，质量流量控制器（美国艾丽凯特）；是本系统的控制机构，其动作直接受执行机构控制。是氢气、氮气混合配比的关键部件。
2，氢分仪（西安仪表）；是本设备的检测机构(小流量计是氢分仪的流量控制器)，显示配比气中的氢百分比含量，并把氢百分比含量转换成4-20mA的电流信号。
3，智能显示调节仪（爱丽凯特）；是设备的控制器，把氢分仪的电流信号与设定值比较计算，计算结果转换成执行器需要的4-20mA的电流信号。智能显示调节仪有混合气浓度报警输出.
4，混合罐（304）；把氢气、氮气混合配比并做小型缓冲作用。
5，配比流量计；把混合配比气的使用实时流量显示出来。
6，压力控制器；对氮气压力有报警输出，并关闭氦气进口，保证工作点氢气浓度不会超标。
全自动氢氮混合配比柜在半导体微电子氢检漏中的应用 工艺流程；
工艺流程及控制方法
1.采用进口质量流量控制器控制器气体的体积流量进行二元或三元气体的混合配比，在设备高精度工作的同时，保证设备运行的可靠性和配比稳定性。（三元气体 以相应标准气体做同比例标定，实测气体显示数据做依据做比对数据检测或联机色谱仪在线监测微调质量流量计设备参数，使其最终混配比例在0.1%以内，具体数据以色谱仪或气体分析仪的分辨率为基准）
2、控制方式：采用知名品牌PLC与触摸屏控制，实时显示配比流程、配比比例、工作压力、报警参数等信息，使操作变的简易明了。控制采用PLC与质量流量控制器做通讯控制，保证了配比的精度，同时设备设手动操作显示仪，可手动调节配比的比例。
